Автор туралы ақпарат
Рахимова, Т. В.
| Шығарылым | Бөлім | Атауы | Файл |
| № 11 (2024) | Articles | Oxidation and Etching of Thin Ruthenium Films in Low Ion Energy Oxygen Plasma |
Пайдаланушы
Жазылу
Жазылымды тексеру үшін жүйеге кіріңіз
Кілтсөздер
X-ray diffraction
X-ray photoelectron spectroscopy
atomic force microscopy
density functional theory
electron microscopy
electronic structure
ion implantation
irradiation
magnetron sputtering
microstructure
nanoparticles
neutron reflectometry
phase composition
scanning electron microscopy
silicon
structure
surface
surface morphology
synchrotron radiation
thin films
zinc oxide
Ағымдағы шығарылым
№ 11 (2024)
×
Пайдаланушы
Жазылу
Жазылымды тексеру үшін жүйеге кіріңіз
Кілтсөздер
X-ray diffraction
X-ray photoelectron spectroscopy
atomic force microscopy
density functional theory
electron microscopy
electronic structure
ion implantation
irradiation
magnetron sputtering
microstructure
nanoparticles
neutron reflectometry
phase composition
scanning electron microscopy
silicon
structure
surface
surface morphology
synchrotron radiation
thin films
zinc oxide
Ағымдағы шығарылым