Аннотация
Слои на поверхности алюминия, алюминиевого сплава, титана и тантала формировали в процессе ионно-ассистируемого осаждения металлов. Осаждение металла и перемешивание наносимого слоя с поверхностью подложки ускоренными (U = 20 кВ) ионами того же металла осуществляли в экспериментальной установке соответственно из нейтральной фракции паров металла и ионизированной плазмы импульсного вакуумного (p ~ 10–2 Па) дугового разряда. Получены многокомпонентные аморфные слои, содержащие атомы осажденного металла, компоненты материала подложки, включая кислород поверхностной оксидной пленки, а также молекулы углеводородов в качестве примесей. Установлено, что при ионно-ассистируемом осаждении на поверхность исследуемых материалов металлов, обладающих геттерными свойствами (Zr, Cr, Er, Dy и др.), из остаточной атмосферы вакуумной рабочей камеры улавливаются значительные количества газов и включаются в состав формируемого слоя. Следует отметить, что содержание атомов материала подложки в слое невелико. При ионно-ассистируемом осаждении металлов, не проявляющих геттерных свойств, содержание примесей в полученных слоях существенно меньше, в их составе содержатся атомы осажденного металла и материала подложки.